Development of low damage sputtering cathode and evaluation of its performance
Development of low damage sputtering cathode and evaluation of its performance
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低损伤溅射阴极的研制及其性能评价
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Tanaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Iwata;K. Okada;H. Ishii;D. Kato;T. Sekiya;M. Tanaka
