H.Oigawa: "Universal Passivation Effect of (NH_4)_2Sx Treatment on the Surface of IIIーV Compound Semiconductors" Jpn.J.Appl.Phys.30. L322-L325 (1991)
H.Oigawa: "Universal Passivation Effect of (NH_4)_2Sx Treatment on the Surface of IIIーV Compound Semiconductors" Jpn.J.Appl.Phys.30. L322-L325 (1991)
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H.Oikawa：“(NH_4)_2Sx 处理对 III-V 族化合物半导体表面的通用钝化效应”Jpn.J.Appl.Phys.30 (1991)。
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