高速CVDプロセスの開発
高速CVDプロセスの開発
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高速CVD工艺的开发
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤 孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Narushima;K.Ueda;T.Goto;H.Masumoto;T.Katsube;H.Kawamura;C.Ouchi;Y.Iguchi;R.Tu;H.Miyazaki;H.Masumoto;後藤 孝
