CMP プロセスにおける接触応力の動的有限要素法解析
CMP プロセスにおける接触応力の動的有限要素法解析
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CMP工艺中接触应力的动态有限元分析
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
社本英二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
橋本洋平;鈴木教和;樋野励;社本英二
