J.Choi, K.Minami and M.Esashi: "Application of Deep Reactive Ion Etching for Silicon Angular Rate Sensor" Microsystem Technologies. 2,4. 186-199 (1996)
J.Choi, K.Minami and M.Esashi: "Application of Deep Reactive Ion Etching for Silicon Angular Rate Sensor" Microsystem Technologies. 2,4. 186-199 (1996)
复制标题
J.Choi、K.Minami 和 M.Esashi：“深度反应离子蚀刻在硅角速率传感器中的应用”微系统技术。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
