M.Okuyama: "Growth of SiO_2 thin film by photoーCVD using synchrotron orbital radiation" Solid State Electronics,suppl. 33. 149-154 (1990)
M.Okuyama: "Growth of SiO_2 thin film by photoーCVD using synchrotron orbital radiation" Solid State Electronics,suppl. 33. 149-154 (1990)
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M.Okuyama：“使用同步加速器轨道辐射通过光 CVD 生长 SiO_2 薄膜”，Solid State Electronics，suppl. 33. 149-154 (1990)
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