H. Fukuda, S. Sakuma, T. Yamada, S. Nomura, M. Nishino, T. Higuchi, S. Ohshima: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"25^<th> International Conference on the Physics of Semiconductors (Osaka). 85 (2000)
H. Fukuda, S. Sakuma, T. Yamada, S. Nomura, M. Nishino, T. Higuchi, S. Ohshima: "Characterization of Ge Nanocrystals Embedded in SiO_2 Films"25^<th> International Conference on the Physics of Semiconductors (Osaka). 85 (2000)
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H. Fukuda、S. Sakuma、T. Yamada、S. Nomura、M. Nishino、T. Higuchi、S. Ohshima：“SiO_2 薄膜中嵌入的 Ge 纳米晶体的表征”第 25 届国际半导体物理会议
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