シリコン PECVD 中の膜評価
シリコン PECVD 中の膜評価
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硅 PECVD 期间的薄膜评估
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
布村正太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Nunomura;I. Sakata;K. Matsubara;S. Nunomura;S. Nunomura;布村正太
