Adsorption of oxygen at room temperature on polycrystalline titanium studied by ultraviolet and X-ray photoelectron spectroscopy
Adsorption of oxygen at room temperature on polycrystalline titanium studied by ultraviolet and X-ray photoelectron spectroscopy
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紫外和X射线光电子能谱研究多晶钛室温下氧的吸附
DOI：
10.1002/pssb.2220830107
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发表时间：
1977
影响因子：
1.6
通讯作者：
S.‐E. Kaelsson
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. L. Hagsteöm;A. Platau;S.‐E. Kaelsson
用紫外和X射线光电子能谱（UPS和ESCA）研究了新鲜蒸发的钛膜，并将其暴露于不同的氧气量中，使用HeI，HeII和AlK α 1，2辐射。价带的结果与以前的实验结果和报告的态密度进行了比较。与先前的结果相反，在21.2 eV的光谱中，在103 × 10 − 4 Torr s的曝光下，没有观察到Ti 3d态的发射明显减少。从ESCA测量中提取关于反应动力学的信息。发现O Is光电子线的强度在低于约10 - 6 Torr s时根据对数关系随着曝光而增加，并且在高于约10 - 4 Torr s时饱和。在饱和区记录的Ti 2p双峰揭示了存在的TiO 2层的厚度为一到两个单层。
在紫外线和伦琴光电子光谱仪（UPS和ESCA）的帮助下，韦尔登发现了在紫外线和伦琴光电子光谱仪（UPS和ESCA）的辅助下进行的超声波衰减试验。大北为HeI、HeII-和AlK α 1，2-辐射源。这种认知，使瓦伦茨班的韦尔登，韦尔登通过对认知的实验和对文学的理解而得以实现。实验结果表明，在21.2 eV谱线上，在1.3 × 10 - 4 Torr条件下，Ti 3d-Zustanden的发射不会产生德国吸收。从ESCA-Messungen可以获得韦尔登。光电子线的强度在以下情况下呈指数关系。10 - 5 Torr s gemas einer musicchen Beziehung und geht oberhalb von ca. 10 − 4 Torr s in eine Sattigung uber.在Ti 2 p-双片的制备中，一个TiO 2-Schicht与一个迪凯形成一个双单组分。
Titanium films, freshly evaporated and exposed to varying amounts of oxygen, are studied by ultraviolet and X-ray photoelectron spectroscopy (UPS and ESCA), using HeI, HeII and AlKα1,2 radiation. The valence band results are compared with previous experimental results and with reported densities of states. Contrary to previous results, no pronounced decrease in the emission from Ti 3d states is observed in the 21.2 eV spectrum at exposures of ≦ 3 × 10−4 Torr s. Information about the reaction kinetics is extracted from ESCA measurements. The intensity of the O Is photoelectron line is found to increase with exposure according to a logarithmic relation below about 10−6 Torr s and to saturate above about 10−4 Torr s. In the saturated region recordings of the Ti 2p doublet revealed presence of a TiO2 layer with a thickness of one to two monolayers.
Titanschichten, die unmittelbar nach dem Aufdampfen unterschiedlicher Sauerstoffexponierung ausgesetzt waren, werden mit Hilfe von Ultraviolett- und Rontgen-Photoelektronenspektroskopie (UPS und ESCA) untersucht. Dabei wird HeI, HeII- und AlKα1,2-Strahlung angewendet. Die Ergebnisse, die fur das Valenzband erhalten werden, werden mit fruheren experimentellen Ergebnissen und mit Zustandsdichten aus der Literafcur verglichen. Im Gegensatz zu fruheren Ergebnissen wird keine deutliche Abnahme der Emission aus Ti 3d-Zustanden im 21,2 eV-Spek-trum bei Exponierungen ≦ 3 × 10−4 Torr s beobachtet. Aus den ESCA-Messungen konnen Informationen uber die Reaktionskinetik gewonnen werden. Die Intensitat der O Is-Photoelektronen-Linie steigt bei Exponierung unter ca. 10−5 Torr s gemas einer logarithmischen Beziehung und geht oberhalb von ca. 10−4 Torr s in eine Sattigung uber. Im Sattigungsgebiet zeigt das Auftreten des Ti 2p-Dubletts, das eine TiO2-Schicht mit einer Dicke von ein bis zwei Monoschichten vor-handen ist.