Low energy indium or gallium iom beam injection to SiO2 thin films for development of novel catalysts
Low energy indium or gallium iom beam injection to SiO2 thin films for development of novel catalysts
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将低能铟或镓离子束注入 SiO2 薄膜以开发新型催化剂
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yoshimura;M. Kiuchi;Y. Nishimoto;M. Yasuda;A. Baba;S. Hamaguchi
