光スピンホール効果エリプソメトリの開発（第4報） 表面粗さ計測の解析的検討
光スピンホール効果エリプソメトリの開発（第4報） 表面粗さ計測の解析的検討
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光学自旋霍尔效应椭偏仪的发展（第四次报告）表面粗糙度测量的分析研究
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高谷 裕浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Li Zhehan;水谷 康弘;上野原 努;高谷 裕浩
