Thermal Stability and Electron Irradiation Damage of Ordered Structure in the Thermal Oxide Layer on Si
Thermal Stability and Electron Irradiation Damage of Ordered Structure in the Thermal Oxide Layer on Si
复制标题
硅热氧化层有序结构的热稳定性和电子辐照损伤
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Umeno
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Shimura;D.Shimokawa;T.Inoue;T.Hosoi;H.Watanabe;O.Sakata;M.Umeno
