RFスパッタリングを用いた酸素無供給下でのSrTiO3薄膜の成長とアニール効果

RFスパッタリングを用いた酸素無供給下でのSrTiO3薄膜の成長とアニール効果
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射频溅射无氧条件下 SrTiO3 薄膜的生长和退火效果

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
吉本健 一
吉本健 一
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
新浜尚幸;山家卓也;篁耕司;吉本健 一

文献摘要

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