Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography
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复制标题
新型可降解单体及其在紫外压印光刻中的应用
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Shirai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jun Nozawa;Katsuo Tsukamoto;Willem van Enckevort;Tomoki Nakamura;Yuki Kimura, Hitoshi Miura;Hisao Satoh,Ken Nagashima;Makoto Konoto;M. Shirai
