1.3um Quantum Dot Distributed Feed Back Laser with Half-Etching Mesa Vertical Grating using Cl2 Dry Etching process
1.3um Quantum Dot Distributed Feed Back Laser with Half-Etching Mesa Vertical Grating using Cl2 Dry Etching process
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1.3um 量子点分布式反馈激光器，采用 Cl2 干法刻蚀工艺，半刻蚀台面垂直光栅
DOI：
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发表时间：
2013
影响因子：
1.5
通讯作者：
KEISHIRO GOSHIMA
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taiga Kodama;Toshihisa Osaki;Ryuji Kawano;Koki Kamiya;Norihisa Miki;and Shoji Takeuchi;KEISHIRO GOSHIMA
