Microplasma induced silicon quantum dots surface and energy band gap engineering.
Microplasma induced silicon quantum dots surface and energy band gap engineering.
复制标题
微等离子体诱导硅量子点表面和能带隙工程。
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Davide Mariotti
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Vladimir Svrcek;Mickael Lozac’h;Somak Mitra;Davide Mariotti
