Formation of 12-nm nanodot pattern by block copolymer self-assembly technique
Formation of 12-nm nanodot pattern by block copolymer self-assembly technique
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利用嵌段共聚物自组装技术形成12纳米纳米点图案
DOI：
10.4028/www.scientific.net/kem.534.126
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Hosaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Huda;T. Tamura;Y. Yin;and S. Hosaka
