非平衡プラズマジェットCVDに於けるガス流速がSi成膜品質に及ぼす影響の考察
非平衡プラズマジェットCVDに於けるガス流速がSi成膜品質に及ぼす影響の考察
复制标题
非平衡等离子体射流CVD中气体流量对Si膜成膜质量影响的思考
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
井関将仁，西田 哲，牟田浩司，栗林志頭眞
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
千藤彰大，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞;兼松雅斗，西田哲，牟田浩司，栗林志頭眞;三和寛之，西田哲，牟田浩司，野々村修一，栗林志頭眞;岡田俊，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞;滝下裕基，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞;廣井将平，牟田浩司，西田哲，栗林志頭眞;井関将仁，西田 哲，牟田浩司，栗林志頭眞
