ナノバブルが半導体基板の精密研磨に与える影響：ナノバブル圧壊プロセスの分子動力学シミュレーション
ナノバブルが半導体基板の精密研磨に与える影響：ナノバブル圧壊プロセスの分子動力学シミュレーション
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纳米气泡对半导体基板精密抛光的影响：纳米气泡塌陷过程的分子动力学模拟
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
青山義昌，許競翔，大谷優介，尾澤伸樹，久保百司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshimasa Aoyama;Jingxiang Xu;Yusuke Ootani;Nobuki Ozawa;Momoji Kubo;青山義昌，許競翔，大谷優介，尾澤伸樹，久保百司
