M.Nagai, K.Kishida, S.Omi: "Low pressure Thermal CVD Synthesis of Tungsten Nitride Thin Film Using WCl_6 as Tungsten Source" Nihon Kagaku Kaishi. 1996. 368-374 (1996)
M.Nagai, K.Kishida, S.Omi: "Low pressure Thermal CVD Synthesis of Tungsten Nitride Thin Film Using WCl_6 as Tungsten Source" Nihon Kagaku Kaishi. 1996. 368-374 (1996)
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M.Nagai、K.Kishida、S.Omi：“使用 WCl_6 作为钨源的氮化钨薄膜的低压热 CVD 合成”Nihon Kagaku Kaishi。
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