Improvement of in-plane anisotropy field in FeCoB/NiFe/Si thin films by Kr sputtering
Improvement of in-plane anisotropy field in FeCoB/NiFe/Si thin films by Kr sputtering
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Kr溅射改善FeCoB/NiFe/Si薄膜面内各向异性场
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Nakagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A.Hashimoto;S.Ito;S.Nakagawa
磁盘基底上沿交叉磁道方向具有高各向异性场的 Fe-Co-B/[Ni-Fe/Si] 软磁底层
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Journal of Magnetism and Magnetc Materials 287
影响因子：
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作者：
Sukefumi Ito;Takeshi Okamoto;Sok-Hyun Kong;Shigeki Nakagawa
通讯作者：
Shigeki Nakagawa
DOI：
10.1109/tmag.2002.801799
发表时间：
2002
期刊：
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影响因子：
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作者：
D. Litvinov;A. Lyberatos;M. Kryder;J. Wolfson;J. Bain;S. Khizroev
通讯作者：
S. Khizroev