Chemical doping studies on thin film antiferromagnetic kagome metal FeSn
Chemical doping studies on thin film antiferromagnetic kagome metal FeSn
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薄膜反铁磁金属FeSn的化学掺杂研究
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Joseph G. Checkelsky
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Minyong Han;Caolan John;Madhav Prasad Ghimire;Shiang Fang;Manuel Richter;Hisashi Inoue;Efthimios Kaxiras;Joseph G. Checkelsky
