Effect of substrate position on chemical states of the deposited films with benzene as a source during plasma CVD
Effect of substrate position on chemical states of the deposited films with benzene as a source during plasma CVD
复制标题
等离子体CVD过程中基底位置对苯源沉积薄膜化学状态的影响
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐々本 凌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
篠原 正典;中居 辰夫;桒田 篤哉;佐々本 凌
