K.Sugiyama: "SiliconーHydrogen Bonds in Silicon Native Oxides Formed during Wet Chemical Treatments" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L2401-L2404 (1990)
K.Sugiyama: "SiliconーHydrogen Bonds in Silicon Native Oxides Formed during Wet Chemical Treatments" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L2401-L2404 (1990)
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K.Sugiyama：“湿化学处理过程中形成的硅天然氧化物中的硅氢键”，《日本应用物理学杂志》29。L2401-L2404（1990）。
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