八百 隆文: "Nanometer-scale deposition of Ga on HF-treated Si(111) surfaces through the decomposition of triethyl gallium by scanning trureling microscopy" Japanese Journal of Applied Physics. 32. 2814-2817 (1993)
八百 隆文: "Nanometer-scale deposition of Ga on HF-treated Si(111) surfaces through the decomposition of triethyl gallium by scanning trureling microscopy" Japanese Journal of Applied Physics. 32. 2814-2817 (1993)
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Takafumi Yao：“通过扫描特雷林显微镜分解三乙基镓，在 HF 处理的 Si(111) 表面上沉积 Ga 纳米级”，《日本应用物理学杂志》，32. 2814-2817 (1993)。
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