T.Yuasa: "Reduction in leakage current density of Si-based metal-oxide-semiconductor structure by use of catalytic activity of a platinum overlayer"Appl. Phys. Lett.. 77. 4031 (2000)
T.Yuasa: "Reduction in leakage current density of Si-based metal-oxide-semiconductor structure by use of catalytic activity of a platinum overlayer"Appl. Phys. Lett.. 77. 4031 (2000)
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T.Yuasa：“利用铂覆盖层的催化活性降低硅基金属氧化物半导体结构的漏电流密度”Appl。
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