銅スパッタ薄膜内部の残留応力分布のX線測定
銅スパッタ薄膜内部の残留応力分布のX線測定
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X射线测量溅射铜薄膜内部残余应力分布
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
坂上卓
中科院分区：
文献类型：
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作者：
秋庭義明;木村英彦;坂上卓
