陽極化成とp++エッチストップとを利用したシリコン深堀ウェットエッチング
陽極化成とp++エッチストップとを利用したシリコン深堀ウェットエッチング
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使用阳极氧化和 p++ 蚀刻停止进行深硅湿法蚀刻
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大野 武雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
氷室昭三;黒田英里;氷室昭三;氷室昭三;氷室昭三;氷室昭三;大野 武雄
