Behavior of trench surface by H2 annealing for reliable trench gate oxide
Behavior of trench surface by H2 annealing for reliable trench gate oxide
复制标题
通过 H2 退火获得可靠的沟槽栅极氧化物的沟槽表面行为
DOI：
10.1016/s0022-0248(03)01238-7
复制
发表时间：
2003
影响因子：
1.8
通讯作者：
K. Cho
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Sang;T. Roh;K. Dae;I. Park;Ju Wook Lee;J. Koo;I. Bae;K. Cho
