Evaluation of Lattice-Spacing of Si and SiGe by NBD using conventional TEM
Evaluation of Lattice-Spacing of Si and SiGe by NBD using conventional TEM
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使用传统 TEM 通过 NBD 评估 Si 和 SiGe 的晶格间距
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Keisuke Arimoto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Junji Yamanaka;Takuya Oguni;Joji Furuya;Kosuke O. Hara;Keisuke Arimoto
