Fabrication of nanostructured semiconductor surfaces using anodic porous alumina and metal-assisted chemical etching
Fabrication of nanostructured semiconductor surfaces using anodic porous alumina and metal-assisted chemical etching
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使用阳极多孔氧化铝和金属辅助化学蚀刻制造纳米结构半导体表面
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Hashimoto and S. Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Asoh;H. Hashimoto and S. Ono
