4インチSiC基板のUVアシスト研磨に関する研究
4インチSiC基板のUVアシスト研磨に関する研究
复制标题
4英寸SiC衬底紫外辅助抛光研究
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
藤田隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
坂本 武司;稲木匠;小田和明;峠 睦;藤田隆
