LPCVD法在制绒单晶硅片衬底上制备ZnO∶B透明导电薄膜及其性能的研究
LPCVD法在制绒单晶硅片衬底上制备ZnO∶B透明导电薄膜及其性能的研究
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DOI:
10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2015.01.001
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
杜国平
中科院分区:
文献类型:
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作者:
朱登华;李旺;刘石勇;牛新伟;杜国平