基于深反应离子刻蚀的高深宽比微槽结构制造

基于深反应离子刻蚀的高深宽比微槽结构制造
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DOI:
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发表时间:
2013
期刊:
MICROSYSTEM TECHNOLOGIES
影响因子:
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通讯作者:
Jijun Xiong
Jijun Xiong
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
Maoxiang Guo;Xiujian Chou;Jiliang Mu;Bing Liu;Jijun Xiong

文献摘要

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