その場減圧窒素マイクロプラズマ処理によるMOMBE GaN成長再現性の向上
その場減圧窒素マイクロプラズマ処理によるMOMBE GaN成長再現性の向上
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通过原位减压氮气微等离子体处理提高 MOMBE GaN 生长再现性
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
成塚 重弥
中科院分区：
文献类型：
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作者：
日下部 安宏;丸山 隆浩;清水 一男;成塚 重弥
