Takahashi, M., Sakoh, A., Ichii, K., Tokuda, T., Yoko, T., Nishii, J.: "Photosensitive GeO_2-SiO_2 films for ultraviolet laser writing of channel waveguides and Bragg gratings"Appl.Opt.. 42(42). 4594-4598 (2003)
Takahashi, M., Sakoh, A., Ichii, K., Tokuda, T., Yoko, T., Nishii, J.: "Photosensitive GeO_2-SiO_2 films for ultraviolet laser writing of channel waveguides and Bragg gratings"Appl.Opt.. 42(42). 4594-4598 (2003)
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Takahashi, M.、Sakoh, A.、Ichii, K.、Tokuda, T.、Yoko, T.、Nishii, J.：“用于通道波导和布拉格光栅的紫外激光写入的光敏 GeO_2-SiO_2 薄膜”Appl.Opt
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