トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果

トンネル接合膜のTMR特性に及ぼすAl-N絶縁層へのイオン照射の効果
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Al-N绝缘层离子辐照对隧道结薄膜TMR性能的影响

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
日本応用磁気学会誌 (発表予定)
影响因子:
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通讯作者:
角田匡清
角田匡清
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
角田匡清

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