Yoshinori Morita, Isamu Kato: "Fabrication of SiN Films at Low Temperature Using RF Biased Coaxial-Line Type Microwave Plasma" Trans.of EIC of Japan. Vol.J79-C-II. 303-310 (1996)
Yoshinori Morita, Isamu Kato: "Fabrication of SiN Films at Low Temperature Using RF Biased Coaxial-Line Type Microwave Plasma" Trans.of EIC of Japan. Vol.J79-C-II. 303-310 (1996)
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Yoshinori Morita、Isamu Kato：“使用射频偏置同轴线型微波等离子体在低温下制造 SiN 薄膜” Trans.of Japan。
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