Reverse Nonequilibrium Molecular Dynamics Calculation of the Resist Shear Viscosity in UV-Nanoimprint Lithography
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紫外纳米压印光刻抗蚀剂剪切粘度的逆非平衡分子动力学计算
DOI：
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发表时间：
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影响因子：
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通讯作者：
Yiping Tang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jun Du;Zhengying Wei;Yiping Tang
