Mechanisms of Self Limiting Processes in Thermal Atomic Layer Etching of Nickel by beta-diketones
Mechanisms of Self Limiting Processes in Thermal Atomic Layer Etching of Nickel by beta-diketones
复制标题
β-二酮热原子层蚀刻镍的自限过程机制
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Hamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Abdulrahman H. Basher;I. Hamada;T. Ito;K. Karahashi;and S. Hamaguchi
