Effects of Ni Doping Composition on the Physical Properties and Electrical Properties of Cu1-xNixO Thin-Film Transistors
Effects of Ni Doping Composition on the Physical Properties and Electrical Properties of Cu1-xNixO Thin-Film Transistors
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Ni掺杂成分对Cu1-xNixO薄膜晶体管物理性能和电学性能的影响
DOI：
10.1109/ted.2022.3145328
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发表时间：
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影响因子：
3.1
通讯作者：
Wenwu Li
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jingchi Liu;Caifang Gao;Jiayan Yang;Huan He;Wei Ou-Yang;Dongxu Zhang;Wenwu Li
