Masakiyo Matsumura: "Hydrogen RadicalーAnnealing of ChemicalーVaporーDeposited Amorphous Silicon Films" Jpn.J.Appl.Phys.29. L2171-L2174 (1990)
Masakiyo Matsumura: "Hydrogen RadicalーAnnealing of ChemicalーVaporーDeposited Amorphous Silicon Films" Jpn.J.Appl.Phys.29. L2171-L2174 (1990)
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Masakiyo Matsumura：“氢自由基-化学退火-气相沉积非晶硅薄膜”Jpn.J.Appl.Phys.29 (1990)。
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