H.Mizubayashi, D.Kashimura, K.Yokota, H.Tanimoto: "Elasticity and Resistivity Study on the Electromigration Effect Observed in Aluminum-Silieon Copper Alloy Thin Films"Materials Science and Engineering A. (in press). (2003)
H.Mizubayashi, D.Kashimura, K.Yokota, H.Tanimoto: "Elasticity and Resistivity Study on the Electromigration Effect Observed in Aluminum-Silieon Copper Alloy Thin Films"Materials Science and Engineering A. (in press). (2003)
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H.Mizubayashi、D.Kashimura、K.Yokota、H.Tanimoto：“铝硅铜合金薄膜中观察到的电迁移效应的弹性和电阻率研究”材料科学与工程 A.（出版中）。
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