伊藤 和男: "反応性イオンエッチングによるSi基板への三次元微細構造の増幅転写技術の開発"群馬大学サテライト・ベンチャービジネス・ラボラトリー 平成14年度年報. 第7号. 56-59 (2003)
伊藤 和男: "反応性イオンエッチングによるSi基板への三次元微細構造の増幅転写技術の開発"群馬大学サテライト・ベンチャービジネス・ラボラトリー 平成14年度年報. 第7号. 56-59 (2003)
复制标题
伊藤一夫：“通过反应离子蚀刻将三维微结构放大转移到硅基板上的技术的开发”群马大学卫星创业商业实验室2002年年度报告第7. 56-59号（2003年）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
