W. Chen: "Surface Reaction Modeling in an RF Plasma CVD of a-Si:H" Proc. 10th Symposium on Plasma Processing. 215-218 (1993)
W. Chen: "Surface Reaction Modeling in an RF Plasma CVD of a-Si:H" Proc. 10th Symposium on Plasma Processing. 215-218 (1993)
复制标题
W. Chen：“a-Si:H 的射频等离子体 CVD 中的表面反应建模”Proc。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
