High spin polarization at Heusler-alloy/silicon interface
High spin polarization at Heusler-alloy/silicon interface
复制标题
Heusler 合金/硅界面处的高自旋极化
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Abe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.;Shirai・H.;Yamaguchi・H.;Katayama-Yoshida;K. Abe
