Magnetic Field Response of Josephson Junction on Magnetically-Doped Topological Insulator
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磁掺杂拓扑绝缘体约瑟夫森结的磁场响应
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Kashiwaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yamamoto;R. Yano;H. T. Hirose;M. Koyanagi;H. Kashiwaya;T. Sasagawa;S. Kashiwaya
