Handbook of Cleaning in Semiconductor Manufacturing: Fundamental and Applications
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半导体制造清洁手册：基础与应用
DOI：
10.1002/9781118071748
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发表时间：
2010
影响因子：
3.2
通讯作者：
R. Reidy
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Reinhardt;R. Reidy
