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Research Initiation: Formation of Buried Insulators in Silicon By Oxygen and Nitrogen Implantation
研究启动：通过氧和氮注入在硅中形成埋地绝缘体
基本信息
- 批准号：8106693
- 负责人：
- 金额：$ 4.8万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1981
- 资助国家：美国
- 起止时间：1981-05-01 至 1983-10-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
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