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Kinetics of Plasma Sintering of Ceramic Materials
陶瓷材料等离子烧结动力学
基本信息
- 批准号：8612895
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1986
- 资助国家：美国
- 起止时间：1986-07-01 至 1987-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Ceramics are being considered increasingly for high temperature structural applications, as bearing surfaces and as cutting toolds. The current limitations are strength and fracture toughness. This project explores a novel technique, namely, plasm sintering ceramics, in particular of SiC and Si3 N4.
陶瓷越来越多地被考虑用于高温结构应用，作为轴承表面和刀具。目前的限制是强度和断裂韧性。本项目探索了一种新技术，即等离子烧结陶瓷，特别是碳化硅和氮化硅。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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Kamleshwar Upadhya;Wesley P. Hoffman - 通讯作者：
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1828672 - 财政年份：2018
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